杭州柏纳光电有限公司

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可扩展多模式共聚焦显微成像系统

 
可扩展多模式共聚焦显微成像系统
产品详情
规格参数

可扩展多模式共聚焦显微成像系统基于我司自主研发的机架,采用模块化设计,让您的实验平台变得无比灵活。

模块化设计,自由搭配

  • 选择权在您手中!自由组合共聚焦显微、宽场荧光和全内反射等成像模式,以适应不断变化的研究需求。

持续升级,与时俱进】

  • 设计考虑到了未来的可能性,支持系统升级,确保您的设备始终与科研前沿保持同步。

微观世界的通行证

  • 高清成像,无论是细胞结构的精细观察,还是材料表面的微小特征,都能尽收眼底。

科研伙伴,效率倍增】

  • 用户友好的界面和优化的操作流程,让您的实验更加高效,将更多时间留给发现与创新。

【定制化解决方案




成像模式主要参数技术指标


共聚焦

光源

05nm,488nm,561nm,640nm激光

分辨率

XY:~230nm,Z:~500nm

成像速度

4fps@512x512(双向)

**扫描像素

4096x4096

宽场

光源

四波长LED光源,UV、B、G、R单独可控,支持内外触发


TIRF

光源

405nm,488nm,561nm,640nm激光

照明模式

Ring-TIRF旋转环形照明,均匀激发

自动环形照明与同步触发

变角度环形照明与同步触发手动任意更改照明角度与方位角

振镜角度精度

10urad

环形照明扫描频率

200Hz



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销售邮箱:sales@nanoscopy.cn
其他:master@nanoscopy.cn